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NanoCalc薄膜反射光譜儀系統(tǒng)
2019/08/07
NanoCalc 薄膜反射測量系統(tǒng)
薄膜的光學(xué)特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進行10nm~250μm的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。
產(chǎn)品特點
可分析單層或多層薄膜
分辨率達0.1nm
適合于在線監(jiān)測
操作理論
最常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學(xué)反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。
查找n和k值
可以進行多達三層的薄膜測量，薄膜和基體測量可以是金屬、電介質(zhì)、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫，用戶也可以自己添加和編輯。
應(yīng)用
NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等。
NanoCalc系統(tǒng)
NC-UV-VIS-NIR | |
重量： | 250-1100 nm |
厚度： | 10 nm-70 μm |
光源： | 氘鹵燈 |
NC-UV-VIS | |
重量： | 250-850 nm |
厚度： | 10 nm-20 μm |
光源： | 氘鹵燈 |
NC-VIS-NIR | |
重量： | 400-1100 nm |
厚度： | 20nm-100μm (可選1μm-250μm) |
光源： | 鹵燈 |
NC-VIS | |
重量： | 400-850 nm |
厚度： | 50 nm-20μm |
光源： | 鹵燈 |
NC-NIR | |
重量： | 650-1100 nm |
厚度： | 70 nm-70μm |
光源： | 鹵燈 |
NC-NIR-HR | |
重量： | 650-1100nm |
厚度： | 70 nm-70μm |
光源： | 鹵燈 |
NC-512-NIR | |
重量： | 900-1700 nm |
厚度： | 50 nm-200μm |
光源： | 高亮度鹵燈 |
NanoCalc規(guī)格
入射角： | 90° |
層數(shù)： | 3層以下 |
需要進行參考值測量： | 是 |
透明材料： | 是 |
傳輸模式： | 是 |
粗糙材料： | 是 |
測量速度： | 100ms - 1s |
在線監(jiān)測： | 可以 |
公差（高度）： | 參考值測量或準(zhǔn)直(74-UV) |
公差（角度）： | 參考值測量 |
微黑子選項： | 配顯微鏡 |
顯示選項： | 配顯微鏡 |
定位選項： | 6"和12" XYZ 定位臺 |
真空： | 可以 |