紫外大面積曝光光源

2019/11/25

我們的1000 W紫外大面積曝光光源包括近紫外(350 - 450 nm)、中紫外(260 - 320 nm) 和深紫外(220 - 260 nm)光源。近紫外是經(jīng)過(guò)專(zhuān)門(mén)設計，可曝光大部分光刻膠；中紫外用于聚合物交聯(lián)以及新型光刻膠；深紫外主要用于深紫外光刻膠的研究。我們的照明器可輻照 2.13 x 2.13英寸 到 10 x 10 英寸的樣品。近紫外、中紫外和深紫外光源為HgXe燈，在工作平面上產(chǎn)生高度均勻的準直光束。

特點(diǎn)：

? 高強度輸出

? 強度分布均勻的大面積準直光束

? 高效帶外抑制

? 定時(shí)曝光

紫外大面積曝光光源技術(shù)參數：