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CVD金剛石薄膜

2021/05/18

上圖是具有不同用途的金剛石薄膜產(chǎn)品,其中左上角是獨立式金剛石薄膜,右下角是在Si襯底上的金剛石薄膜.

 

產(chǎn)品說(shuō)明CVD金剛石薄膜

 

概述

我們可以提供厚度低至50nm的獨立式金剛石薄膜。它們分別用于以下幾個(gè)方面:

超薄X-射線(xiàn)窗口

重離子輻射探測器

高能粒子輻射發(fā)光屏

產(chǎn)生高離化粒子的剝離膜

激光加速膜

 

這樣的金剛石薄膜可以采用獨立式的,也可以用CVD技術(shù)沉積到附加的支撐基底上。

 

CVD金剛石薄膜規格參數

材料

CVD光學(xué)級金剛石

導熱系數

>1800 W/mK

表面

雙面拋光,表面粗糙度< 10 nm rms

尺寸

直徑可達76 mm(依賴(lài)于厚度)

厚度

在50nm(更薄,可根據要求)和幾十μm之間

鍍膜

金屬化或介質(zhì)層

裝配

獨立式或附加到支撐體上


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